技術：
Vistec電子束提供電子束曝光系統，以所謂的可變形狀光束原理為基礎。在可變形電子束系統中，電子束通過整形孔徑後形成可變「電子束成像」。形狀尺寸最小可按1奈米的單位變化。最大形狀尺寸取決於電子-光學柱的配置。透過電子偏移和遮蔽開關系統允許將精確的形狀定位與曝光在基材上。如此一來就能分析預計曝光的圖案，進而保證最佳圖案的真實度。
Vistec SB3050-2曝光系統
VistecSB3050-2是我們最先進的電子束曝光系統，採用可變形曝光技術，具備在尺寸長達300mm的光罩製作或晶圓基材上完全寫入的能力。這種高度的靈活性促使能廣泛地應用在研發、光學應用和小批量產上。
Vistec SB254曝光系統
Vistec SB254是一款全自動化、高性能、成本效益高的電子束曝光系統，專門設計用在工業和先進的研究。它以可變形光束(VSB)原理為基礎，200mm的平台工具廣泛用在現階段與新一代半導體和奈米技術的應用上，包括矽晶圓的直接寫入、化合物半導體、光罩製造、整合光學和光學元件。Vistec SB254是一款可靠、經過實地驗證的系統，具有高產能率，適合全時量產生產環境。本產品在全世界許多設施上都有高效率的國際服務團隊在背後支援。
